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對位芳綸沉析納米研磨機

對(dui)位芳(fang)綸(lun)沉析納米研(yan)磨(mo)機過膠體磨(mo)定(ding)、轉齒之間的間隙(xi)(間隙(xi)可(ke)調)時(shi)受到強大(da)的剪切力、摩擦(ca)力、高頻振動等(deng)物理(li)作用,使物料被有(you)效地(di)研(yan)磨(mo)、分散和(he)粉碎,達(da)到物料超細粉碎及均質的效果。

  • 產品型號:XMD
  • 廠商性(xing)質:生產廠家
  • 更新時間:2022-11-12
  • 訪  問  量:2657
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詳細介紹

對位芳綸沉析納米研磨機

 一、產(chan)品(pin)名稱(cheng)概述:對(dui)位(wei)芳(fang)(fang)綸(lun)樹脂研(yan)磨(mo)機(ji)(ji),對(dui)位(wei)芳(fang)(fang)綸(lun)短纖維(wei)研(yan)磨(mo)機(ji)(ji),間(jian)位(wei)芳(fang)(fang)綸(lun)超(chao)細研(yan)磨(mo)機(ji)(ji),一(yi)步法芳(fang)(fang)綸(lun)沉析(xi)研(yan)磨(mo)設備,填充復合芳(fang)(fang)綸(lun)纖維(wei)研(yan)磨(mo)機(ji)(ji),芳(fang)(fang)綸(lun)在(zai)線式連續(xu)化沉析(xi)機(ji)(ji)

二、對位(wei)芳綸

聚(ju)對苯(ben)(ben)二(er)甲酰對苯(ben)(ben)二(er)胺纖維(芳綸1414)是(shi)(shi)聚(ju)對苯(ben)(ben)二(er)甲酰對苯(ben)(ben)二(er)胺經液(ye)晶溶(rong)液(ye)干噴-濕紡制(zhi)得的高強、高模纖維,是(shi)(shi)當前(qian)重(zhong)要的高科技纖維。具(ju)有高強高模、耐高溫、耐腐蝕、質(zhi)量輕(qing)等優異綜合性(xing)能。其強度是(shi)(shi)鋼(gang)(gang)絲的5~6倍(bei)(bei),模量為鋼(gang)(gang)絲或玻璃纖維的2~3倍(bei)(bei),韌(ren)性(xing)是(shi)(shi)鋼(gang)(gang)絲的2倍(bei)(bei),而(er)重(zhong)量僅為鋼(gang)(gang)絲的1/5左右,是(shi)(shi)目前(qian)世界(jie)上高性(xing)能纖維中(zhong)用(yong)途廣的纖維,被廣泛(fan)用(yong)于國防(fang)、航天航空、信息產業等領域(如彈道殼(ke)體、裝甲坦克外殼(ke)和大型客機機翼復合材(cai)料、通訊(xun)光纜加強件)。

三、普遍的(de)對位芳綸纖維生(sheng)產(chan)工藝流程(cheng)

聚對苯二甲酰(xian)對苯二胺(an)與濃硫酸(suan)按比(bi)例混(hun)合----溶(rong)解----脫(tuo)泡----計量擠(ji)出----入凝(ning)固浴成型----水洗----堿洗----水洗----熱處(chu)理----卷(juan)繞成形。

四、對(dui)位芳綸(lun)顆粒(li)填充(chong)的要求

芳(fang)綸填充(chong)關(guan)系到(dao)幾個點,需(xu)要(yao)對粒徑(jing)(jing)的要(yao)求(qiu)*,一般(ban)都(dou)為1微(wei)米左右。干成品(pin)的短纖維剛(gang)性(xing)(xing)和韌性(xing)(xing)很強(qiang),非常的難細化,使用(yong)的設(she)備不當(dang),會導致粒徑(jing)(jing)越(yue)大,厚度(du)越(yue)小,導致長(chang)絲易斷的情況。影響后期應用(yong)的各方面(mian)性(xing)(xing)能。希德機械團(tuan)隊針對于(yu)這個難題進行了研究,解決了大部分客戶的問題,5G時代芳(fang)綸取得了重大的應用(yong),芳(fang)綸的的需(xu)求(qiu)空間(jian)得以擴寬。

五(wu)、如(ru)何更好的研磨芳綸14

芳(fang)綸(lun)14剛性(xing)較(jiao)強,在拉絲經凝固浴成型(xing)后(hou)難(nan)以研(yan)磨。希德人建議(yi)芳(fang)綸(lun)原液需要(yao)經過(guo)沉析(xi)后(hou)立馬進(jin)入高性(xing)能的(de)研(yan)磨設(she)(she)備,在熱固性(xing)沒有冷卻成型(xing)之前進(jin)入該設(she)(she)備,效果可以研(yan)磨到細小的(de)粒徑。我(wo)司可直接(jie)通(tong)過(guo)沉析(xi)和(he)研(yan)磨2階段(duan)的(de)設(she)(she)備。可替換(huan)高扭曲的(de)雙螺桿(gan)擠出設(she)(she)備。成本(ben)較(jiao)低(di),操(cao)作方便,性(xing)價比較(jiao)高。

六、沉析設備(bei)

改(gai)進型沉析(xi)機系列裝備了三組(zu)非標準(zhun)定制的工作頭設備分別有兩個進料口,一個入口(kou)進(jin)凝固浴,另一(yi)個入口芳綸(lun)原液入口處帶有計量泵,可(ke)以(yi)更好的控制漿液與母(mu)液的配比。工作(zuo)原理為利用特殊轉子的高速旋轉產生負壓喂料(liao),并將高模量液晶(jing)態的原(yuan)液連續均勻地導入快速流(liu)動的凝固浴(yu)中,經剪(jian)切(qie)腔混合反應后被(bei)瞬(shun)間剪切(qie)分散,沉析出羽絨狀的短纖維,由于(yu)混合液原(yuan)液在(zai)混合前是互相不接觸的,只有在(zai)混合前的瞬(shun)間,原液被(bei)彌(mi)散狀(zhuang)導入混合液之中(zhong),所以沉析出來的纖維更細,更均勻。

七、芳綸研磨設(she)備
高剪切均質研(yan)磨(mo)機工作(zuo)原理:高剪切均(jun)質研(yan)磨機(ji)是由電動機(ji)通過皮(pi)帶(dai)(dai)傳動帶(dai)(dai)動轉齒(或稱為轉子)與相配的(de)(de)(de)定(ding)齒(chi)(或稱(cheng)為定(ding)子)作相對的(de)(de)(de)高速旋(xuan)轉(zhuan),被加工物(wu)料通過本身的(de)(de)(de)重(zhong)量或外部(bu)壓力(可(ke)由(you)泵產生)加壓產生向下(xia)的(de)(de)(de)螺旋(xuan)沖(chong)擊(ji)力,透過膠體磨(mo)定(ding)、轉(zhuan)齒(chi)之(zhi)間(jian)(jian)(jian)的(de)(de)(de)間(jian)(jian)(jian)隙(間(jian)(jian)(jian)隙可(ke)調)時受到強(qiang)大的(de)(de)(de)剪切力、摩擦力、高頻振動(dong)等物(wu)理作用(yong),使(shi)物(wu)料被有效地研磨(mo)、分散和粉碎,達到物(wu)料超細粉碎及均質的(de)(de)(de)效果。

芳(fang)綸研(yan)磨(mo)設備高剪切均(jun)質研(yan)磨(mo)機是(shi)由膠體磨,分散機組合而成(cheng)的高科技產品。

*級由具有精細度遞(di)升的三級鋸齒突(tu)起(qi)和凹槽(cao)。定子可以無限制的被(bei)調整到所需要的定子與轉子之間的距離(li)。在(zai)增強的流體湍流下,凹槽(cao)在(zai)每級都可以改變方向(xiang)。

第(di)二級由轉定子(zi)(zi)組成。分散頭的設計(ji)也很好地滿足不同粘(zhan)度的物質以及顆粒(li)粒(li)徑的需要。在(zai)線式的定子(zi)(zi)和轉子(zi)(zi)(均質頭)和批次式機器的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)(gong)作頭設(she)計的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同主(zhu)要(yao)(yao)是因為(wei)在對輸(shu)送(song)性(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求方面(mian),特別(bie)要(yao)(yao)引起注意的(de)(de)(de)(de)(de)是:在粗精(jing)度(du)(du)、中等精(jing)度(du)(du)、細(xi)精(jing)度(du)(du)和其(qi)他一些工(gong)(gong)作頭類型之間的(de)(de)(de)(de)(de)區別(bie)不(bu)光是轉子齒(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)排列(lie),還有一個很(hen)重(zhong)要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)區別(bie)是不(bu)同工(gong)(gong)作頭的(de)(de)(de)(de)(de)幾何學特征不(bu)一樣。

狹槽數、狹槽寬(kuan)度以(yi)(yi)及其他幾(ji)何學特征都(dou)能改變定子(zi)和轉子(zi)工作(zuo)頭的不同功能。根據(ju)(ju)以(yi)(yi)往的慣例,依據(ju)(ju)以(yi)(yi)前的經驗(yan)工作(zuo)頭來滿足一(yi)個(ge)具體的應(ying)(ying)用(yong)。在大(da)多數情(qing)況下,機器(qi)的構造是和具體應(ying)(ying)用(yong)相匹配(pei)的,因而它對(dui)制造出終產品是很重要。當不確定一(yi)種工作(zuo)頭的構造是否(fou)滿足預期的應(ying)(ying)用(yong)。

XMD2000系列(lie)的(de)(de)線(xian)速度很高(gao),剪切(qie)間隙非(fei)常小,這(zhe)樣當(dang)物料經過的(de)(de)時(shi)候,形成(cheng)的(de)(de)摩擦力就比較劇(ju)烈,結(jie)果就是通常所(suo)說(shuo)的(de)(de)濕(shi)磨。定轉(zhuan)子被(bei)制成(cheng)圓(yuan)椎形,具有精細度遞升的(de)(de)三級鋸齒突起和(he)凹槽。定子可以(yi)(yi)無限制的(de)(de)被(bei)調(diao)整(zheng)到所(suo)需要的(de)(de)與轉(zhuan)子之間的(de)(de)距離。在增強(qiang)的(de)(de)流體(ti)湍流下(xia), 凹槽在每(mei)級都可以(yi)(yi)改變方向。高(gao)質量(liang)的(de)(de)表面拋光和(he)結(jie)構(gou)材料,可以(yi)(yi)滿足不同行業的(de)(de)多種要求。

芳綸(lun)研(yan)磨設備型號表:

芳(fang)綸研(yan)磨設備(bei)

流(liu)量*

輸出

線速度

功率

入(ru)口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

XMD2000/4

400

18,000

51

4

DN25/DN15

XMD2000/5

1000

10,500

51

11

DN40/DN32

XMD2000/10

3000

7,200

51

22

DN80/DN65

XMD2000/20

8000

4,900

51

45

DN80/DN65

XMD2000/30

20000

2,850

51

90

DN150/DN125

XMD2000/50

60000

1,100

51

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和(he)被處理物(wu)料的特性,同時流量可以被調節到大允許量的 10%。

對位芳綸沉析納米研磨機

 
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