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  • SDH3實驗室高剪切分散機

    實驗室(shi)高剪切(qie)(qie)分(fen)散(san)機具有非常(chang)高的剪切(qie)(qie)速度和剪切(qie)(qie)力,粒徑約(yue)為(wei)0.2-2微米(mi)可以(yi)確保高速分(fen)散(san)乳(ru)化的穩(wen)定性。SDH3是一種三級高剪切(qie)(qie)在線分(fen)散(san)機,用于生產非常(chang)精細的乳(ru)液和懸浮(fu)液。

    更新時(shi)間

    2022-11-12

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  • XMD2000導電材料納米研磨分散機

    導電材料納米(mi)研磨分(fen)散(san)機轉子(zi)速度可(ke)以達(da)到44m/s。在該(gai)速度范圍內,由剪切(qie)力(li)(li)所造(zao)成的(de)湍流結合專門研制的(de)電機可(ke)以使粒(li)徑(jing)范圍小到納米(mi)級(ji)。剪切(qie)力(li)(li)更強,乳液(ye)的(de)粒(li)徑(jing)分(fen)布更窄。

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    2022-11-13

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  • XMD2000鎳氫電池漿料納米分散機

    鎳氫電池漿料(liao)納(na)米(mi)分(fen)散(san)機轉子速(su)度(du)可以達到44m/s。在該(gai)速(su)度(du)范(fan)圍(wei)內,由(you)剪切力所(suo)造(zao)成的湍流結(jie)合專門研制的電機可以使粒(li)徑(jing)范(fan)圍(wei)小到納(na)米(mi)級。剪切力更強(qiang),乳液的粒(li)徑(jing)分(fen)布更窄。

    更新時(shi)間

    2022-11-13

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  • XRS2000芳綸沉析纖維高剪切分散機

    芳(fang)綸沉析纖維高剪(jian)切(qie)(qie)分散(san)機轉(zhuan)子(zi)速(su)度可(ke)以達到(dao)44m/s。在該速(su)度范圍內,由(you)剪(jian)切(qie)(qie)力(li)所造(zao)成的湍流結合專門研制的電(dian)機可(ke)以使粒徑(jing)范圍小(xiao)到(dao)納(na)米級(ji)。剪(jian)切(qie)(qie)力(li)更強,乳液的粒徑(jing)分布更窄。

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    2022-11-13

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  • XMD2000二氧化硅溶膠研磨分散機

    二氧化(hua)硅(gui)溶膠研磨(mo)分(fen)(fen)散機轉子速度可(ke)以達到(dao)44m/s。在該速度范圍(wei)內,由(you)剪(jian)切(qie)力(li)所(suo)造成的湍流結(jie)合專門研制(zhi)的電機可(ke)以使粒(li)徑范圍(wei)小到(dao)納米級。剪(jian)切(qie)力(li)更強,乳(ru)液的粒(li)徑分(fen)(fen)布更窄。

    更(geng)新時間

    2022-11-13

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  • XMD2000氧化鈰高速高剪切分散機

    氧化(hua)鈰高(gao)速(su)高(gao)剪切分散(san)機轉子(zi)速(su)度可以(yi)達到(dao)44m/s。在該速(su)度范圍內(nei),由剪切力所造成的(de)湍流(liu)結(jie)合專門(men)研(yan)制的(de)電機可以(yi)使粒徑范圍小(xiao)到(dao)納米(mi)級。剪切力更強,乳液(ye)的(de)粒徑分布更窄。

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    2023-01-31

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  • XMD2000脂溶性纖維素超高速分散機

    脂溶(rong)性纖(xian)維素(su)超(chao)高速(su)分散機轉子速(su)度可以達(da)到44m/s。在該速(su)度范(fan)圍內(nei),由剪切力(li)(li)所(suo)造成的(de)湍流結合專門(men)研制的(de)電機可以使粒徑范(fan)圍小到納米(mi)級。剪切力(li)(li)更強,乳液(ye)的(de)粒徑分布(bu)更窄(zhai)。

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    2022-11-13

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  • XMD2000中性墨水涂料高速分散機

    中性墨水(shui)涂料高速(su)分散(san)機(ji)轉(zhuan)子(zi)速(su)度可以達到44m/s。在該速(su)度范圍內,由剪(jian)切力所(suo)造成的(de)(de)湍流(liu)結合(he)專門研(yan)制的(de)(de)電(dian)機(ji)可以使粒徑(jing)范圍小到納米級。剪(jian)切力更強,乳液的(de)(de)粒徑(jing)分布更窄。

    更新時(shi)間

    2022-11-13

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