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  • XMD2000煙用香精濃縮液高剪切膠體磨

    煙用香(xiang)精濃(nong)縮液高(gao)剪切膠體磨定子可以(yi)無限制的被調(diao)整到所需要(yao)的轉子之間距離。在增強的流(liu)體湍流(liu)下。凹槽在每級口可以(yi)改變(bian)方向。

    更新時間

    2022-11-13

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  • XMD2000碳酸氫鈉注射液均質膠體磨

    碳酸氫鈉(na)注射液(ye)均質膠體磨定子(zi)可(ke)以無(wu)限制的被調整到所需要(yao)的轉子(zi)之(zhi)間距離。在增(zeng)強的流體湍流下。凹槽在每(mei)級(ji)口可(ke)以改變方向(xiang)。

    更新時(shi)間

    2022-11-13

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  • XMD2000β環糊精高剪切均質乳化機

    β環糊(hu)精高剪切均質乳化機 定子(zi)可以(yi)無限制(zhi)的被調整(zheng)到所需要的轉子(zi)之間距離(li)。在(zai)增(zeng)強的流(liu)體湍流(liu)下。凹(ao)槽在(zai)每級(ji)口可以(yi)改變方向。

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    2022-11-13

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  • XMD2000脫細胞真皮基質膠體磨

    脫細(xi)胞真皮(pi)基質膠體(ti)磨(mo)定子(zi)可以(yi)無限制的被調整到所需(xu)要的轉(zhuan)子(zi)之間距離。在增強的流(liu)體(ti)湍流(liu)下。凹槽(cao)在每級口(kou)可以(yi)改(gai)變方向。

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    2022-11-13

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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

    二氧化硅消光粉高(gao)速膠體(ti)磨定子(zi)可以無限制的(de)被調整到(dao)所需(xu)要(yao)的(de)轉子(zi)之(zhi)間距離(li)。在增強(qiang)的(de)流體(ti)湍(tuan)流下。凹槽在每級(ji)口可以改變方(fang)向。

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    2022-11-13

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  • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

    阿(a)莫西林混懸液(ye)超(chao)高速膠(jiao)體磨定子可(ke)以(yi)無限制的(de)被調整到所需要的(de)轉子之間距離。在(zai)增(zeng)強的(de)流體湍(tuan)流下。凹槽(cao)在(zai)每級口可(ke)以(yi)改變方(fang)向。

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    2022-11-13

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  • XMD2000楓香脂蕓香浸膏膠體磨

    楓(feng)香(xiang)(xiang)脂蕓(yun)香(xiang)(xiang)浸膏膠體磨由(you)于轉子(zi)高速旋轉所產(chan)生的高切線速度和(he)高頻機械(xie)效應帶來的強勁動能,使物料在(zai)定(ding)、轉子(zi)狹窄(zhai)的間(jian)隙中受到強烈的機械(xie)及液(ye)力剪切、離心擠壓、液(ye)層摩擦、撞擊(ji)撕裂(lie)和(he)湍流等綜合作用,形成懸浮液(ye)(固/液(ye)),乳液(ye)(液(ye)體/液(ye)體)和(he)泡沫(氣體/液(ye)體)。

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    2022-11-13

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  • XMD2000納米纖維素均質膠體磨

    納米纖維素均質(zhi)膠(jiao)體磨(mo)定子可以無(wu)限制(zhi)的被(bei)調整到所需要的轉子之間距(ju)離。在增強的流(liu)體湍流(liu)下。凹槽(cao)在每級口可以改變方向。

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    2022-11-13

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